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品牌：IKN
型號：CMSD2000
工作原理：旋轉式研磨機
用途：高速萬能研磨機
應用領域：食品,日化,制藥
研磨盤規(guī)格：180mm
最大進樣尺寸：20mm
最終出料粒度：1
研磨套件材料：316
研磨罐容積：30000
產(chǎn)量：3000kg/h
功率：2.2,7.5,22,37,90kW
外形尺寸：1X1X1mm
重量：400kg
電壓：380
材質(zhì)：317

高速研磨機,高速研磨分散機,高速分散研磨機,9000轉高速研磨機,研磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

高速研磨機是

是干磨的一種安全而高效的替代方案。?

干磨產(chǎn)生大量灰塵，從而需要配備適當?shù)倪^濾系統(tǒng)。當研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產(chǎn)生爆炸性混合物的物質(zhì)時，這一點尤其重要。達到規(guī)定的安全等級通常需要精心設計的技術解決方案，如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實際研磨機的成本。?

用轉子-定子裝置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處：

·?研磨得到的細顆粒被直接融合到懸浮液中，因而從開始就避免了灰塵的形成。

·?與干磨系統(tǒng)不同，被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi)，從而大幅減少了損失。因此，濕磨非常適合有機化學品，尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)，或者有毒物質(zhì)的研磨。

·?相對干磨過程而言，濕磨的產(chǎn)品進料和計量較容易。

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應用中，并且取得了良好的效果，因為它非常適用于API（活性藥用成分）。?

IKN分散機可直接結合到物質(zhì)合成過程中。這使得濕磨過程與其他過程同時進行，從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時間以外，需要的系統(tǒng)數(shù)量和接觸產(chǎn)品的表面尺寸可大幅減少。管線式濕磨機非常適合于CIP或者SIP清潔。濕磨機的好處使其成為具有吸引力的投資產(chǎn)品。?

INA濕磨機基于轉子-定子原理。IKN濕磨機的輸入剪切能大，可實現(xiàn)10?μm及以下粒度。IKN濕磨機能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。鑒于其處理能力，IKN濕磨機被用于諸多應用，如織物涂料、漆、染紙顏料和潤滑脂濕磨。?

為了定制過程，IKN根據(jù)眾多客戶需求，提供下列實驗室及生產(chǎn)用解決方案：

·?三級高剪切分散機ER濕磨

·?膠體磨CM濕磨

·?錐體磨CMO濕磨

·?

高速研磨機

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。?

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出最終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

研磨分散機應用領域：

化學工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑等。
日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮等。
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業(yè)：塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要。

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	3000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	8000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	20000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	60000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的10%。