乳化機,分散機,均質機,研磨分散機,膠體
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產品品牌IKN/依肯
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更新日期2021-10-30 12:00
品牌: |
IKN/依肯 |
所在地: |
上海 |
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有效期至: |
長期有效 |
研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。?
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出最終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
納米研磨機是
是干磨的一種安全而高效的替代方案。?
干磨產生大量灰塵,從而需要配備適當的過濾系統(tǒng)。當研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產生爆炸性混合物的物質時,這一點尤其重要。達到規(guī)定的安全等級通常需要精心設計的技術解決方案,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實際研磨機的成本。?
用轉子-定子裝置濕磨此類物質具有諸多好處:
·?研磨得到的細顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。
·?與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質保持在系統(tǒng)內,從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機化學品,尤其是優(yōu)質物質,或者有毒物質的研磨。
·?相對干磨過程而言,濕磨的產品進料和計量較容易。
濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應用中,并且取得了良好的效果,因為它非常適用于API(活性藥用成分)。?
IKN分散機可直接結合到物質合成過程中。這使得濕磨過程與其他過程同時進行,從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時間以外,需要的系統(tǒng)數量和接觸產品的表面尺寸可大幅減少。管線式濕磨機非常適合于CIP或者SIP清潔。濕磨機的好處使其成為具有吸引力的投資產品。?
INA濕磨機基于轉子-定子原理。IKN濕磨機的輸入剪切能大,可實現10?μm及以下粒度。IKN濕磨機能夠處理寬粘度范圍的產品。鑒于其處理能力,IKN濕磨機被用于諸多應用,如織物涂料、漆、染紙顏料和潤滑脂濕磨。?
為了定制過程,IKN根據眾多客戶需求,提供下列實驗室及生產用解決方案:
·?三級高剪切分散機ER濕磨
·?膠體磨CM濕磨
·?錐體磨CMO濕磨
影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點
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2?膠體磨磨頭頭的剪切速率??(越大,效果越好)
3?膠體磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
4??物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5?循環(huán)次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)
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線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。?
剪切速率?(s-1)?=? ?????v??速率?(m/s)???
??????????????g?定-轉子?間距?(m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:?
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子?間距。?
IKN?定-轉子的間距范圍為?0.2?~?0.4?mm??
?
速率V=??3.14?X??D(轉子直徑)X?轉速?RPM??/???60
?
納米研磨機的型號?CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。?
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本設備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和最終產品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
4 本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準。
?納米研磨機,德國制造
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