| 材質(zhì) | 鋁合金 |
|---|---|
| 產(chǎn)地 | 廣東 |
| 類(lèi)型 | 鍍膜設(shè)備 |
| 批號(hào) | 12+ |
| 加印LOGO | 不可以 |
| 是否進(jìn)口 | 否 |
| 貨源類(lèi)別 | 現(xiàn)貨 |
| 品牌 | 實(shí)力源磁控測(cè)射鍍膜機(jī) |
| 加工定制 | 否 |
磁控濺射（EMI）屏蔽膜，應(yīng)用于手提電腦、手機(jī)殼、電話(huà)、無(wú)線(xiàn)通訊、視聽(tīng)電子、搖控器、導(dǎo)航和醫(yī)用工具等，全自動(dòng)控制，配置大功率磁控電源，雙靶交替使用，恒流輸出。公自轉(zhuǎn)，產(chǎn)量大、良品率高，利用石英晶振膜厚儀測(cè)量膜層厚度，可鍍制膜層厚度。PLC人機(jī)界面自動(dòng)控制系統(tǒng)，隨時(shí)可修改鍍膜參數(shù)。
磁控濺射(EMI)鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù)說(shuō)明
設(shè)備型號(hào) ZCK-1200B ZCK-1400B ZCK-1600B ZCK-1800B
真空室尺寸 1200×1500 1400×1950 1600×1950 1800×1950
制膜種類(lèi) EMI防電磁干擾屏蔽膜、裝飾膜等
電源類(lèi)型 直流磁控電源＋高壓離子轟擊電源
圓柱靶 直流磁控靶（無(wú)氧銅靶＋不繡鋼靶）
真空室結(jié)構(gòu) 立式雙開(kāi)門(mén)、立式單開(kāi)門(mén)
真空系統(tǒng) 滑閥泵＋羅茨泵＋擴(kuò)散泵＋維持泵（或選配：分子泵、深冷泵、深冷系統(tǒng)）
充氣系統(tǒng) 質(zhì)量流量控制儀（1-3路）
極限真空 6×10－4pa（空載、凈室）
抽氣時(shí)間 空載大氣抽至5×10－3pa小于15分鐘
工件旋轉(zhuǎn)方式 6軸/8軸/9軸公自轉(zhuǎn)/變頻無(wú)級(jí)調(diào)速
控制方式 手動(dòng)＋半自動(dòng)＋全自動(dòng)一體化/觸摸屏＋PLC